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家登帆宣崇越 旺到明年

 半導體先進微影技術由浸潤式(immersion)轉向極紫外光(EUV)勢不可擋,包括英特爾、台積電、三星、SK海力士等全球前四大半導體廠已開始全面導入EUV技術並建置全新生產線,第五大廠美光亦傳出加速評估在DRAM製程採用EUV技術,不僅艾司摩爾(ASML)EUV曝光機產能滿載到2022年之...

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